据彭博社周四报道，美国存储芯片大厂美光科技将把EUV光刻技术引入日本，投资5000亿日元用于1-Gamma工艺技术。美光也将获得日本政府提供的约2000亿日元（15亿美元）的补贴。
报道援引知情人士称，美光将利用这笔补贴，在广岛工厂安装荷兰ASML公司的先进芯片制造设备EUV（极紫外光刻机），以制造下一代存储芯片（DRAM）。这项资金计划可能会在日本首相岸田文雄周四会见包括美光首席执行官Sanjay Mehrotra在内的芯片高管代表团时宣布。
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